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期刊信息

期刊名称:微纳电子技术
曾用刊名: 半导体情报
创刊时间:1964年
更名时间:2002年
主管部门:中国电子科技集团公司
主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
出版日期:每月15日
ISSN:1671-4776
CN:13-1314/TN
邮发代号:18-60

网址:www.bdtq.cbpt.cnki.net
e-mail:wndz@vip.sina.com
电话:0311-87091487
地址:石家庄市179信箱49分箱
邮编:050051

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2026年10期
技术论坛

电容式MEMS声发射传感器研究进展

潘珊珊;杨玉华;张赛;

电容式微机电系统(MEMS)声发射传感器基于静电感应换能机制,利用敏感微结构捕获材料损伤释放的瞬态应力波,并将机械振动转化为电容变化,进而输出电信号,是结构健康监测中实现早期损伤识别与定位的核心技术。相比传统块体压电传感器,该类传感器具有微型化、高一致性及易于原位集成等显著优势。首先对比了现有MEMS声发射传感器的主要类型;在此基础上,重点阐述了电容式MEMS声发射传感器的理论基础、面外/面内振动传感机理及先进制造工艺,系统梳理了国内外最新研究进展;最后,深入剖析了该技术走向工程实际应用面临的瓶颈挑战,并对其未来的多模态与智能化发展前景进行了展望。

2026 年 10 期 v.63 ; 国家自然科学基金(62271235); 省部共建动态测试技术国家重点实验室开放基金(2022-SYSJJ-10); 江苏省研究生科研与实践创新计划项目(KYCX25_4299)
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基于MoS2异质结的高性能光电探测器研究进展

潘静雯;郑晓虹;任苏月;

二硫化钼(MoS2)因其可调带隙和优异光电特性在光电探测领域具有重要应用潜力,但单一MoS2器件存在载流子复合严重及光谱响应受限等问题。构建异质结被认为是提升MoS2光电探测器性能的关键策略。围绕MoS2/石墨烯、MoS2/过渡金属硫族化合物、MoS2/钙钛矿及MoS2/硅四类典型异质结体系,系统分析了界面能带对齐、内建电场及缺陷调控对器件性能的影响。对比结果表明:Ⅱ型能带对齐与界面工程协同调控是实现高响应度与快速响应的核心机制,而不同体系在响应速度、稳定性及工艺兼容性方面存在显著权衡。最后,指出界面缺陷控制与规模化制备仍是制约基于MoS2异质结的光电探测器应用的关键挑战。

2026 年 10 期 v.63 ; 国家自然科学基金(62504157)
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Ti掺杂二硫化钼吸附气体分子的第一性原理研究

施金辛;陈冒硕;石昊朋;许巍;任青颖;李卫;

基于密度泛函理论,系统研究了NO、NH3、H_2S和HCHO四种气体分子在本征单层二硫化钼(MoS2)表面及NH3、H_2S和HCHO三种气体分子在Ti掺杂MoS2表面的吸附行为与电学、磁学性质。通过比较不同初始吸附位点,确定了各分子的最稳定吸附构型,并系统计算了吸附能、吸附距离、电荷转移、功函数、恢复时间及态密度等关键参数,以阐明吸附机制并识别敏感气体。结果表明,本征单层MoS2对NH3为物理吸附,对H_2S和HCHO为弱化学吸附,而对NO则为较强化学吸附,且吸附强度与脱附可逆性高度适配,因此对NO最为敏感。能带结构分析显示,NH3、H_2S和HCHO的吸附对MoS2禁带宽度影响较小;NO吸附显著减小体系禁带宽度,主要源于N和O原子的p轨道贡献,吸附后体系总磁矩约1.1μB,使体系呈现磁性。理论分析表明,本征单层MoS2在NO气敏检测方面具有潜力。Ti掺杂MoS2对NH3和H_2S的吸附性能显著增强,且无吸附过强导致的不脱附问题,表现出更优的气敏特性。该研究从电子结构层面揭示了MoS2基材料对不同气体的敏感机理,为高选择性气体传感器的设计与优化提供了理论参考。

2026 年 10 期 v.63 ;
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器件与技术

基于增益增强自适应稳压结构的鉴频鉴相器和电荷泵电路设计

浦冰玮;董业民;

设计了一种基于增益增强自适应稳压结构的鉴频鉴相器(PFD)和电荷泵(CP)电路。首先对鉴频鉴相器和电荷泵的传统结构以及非理想效应进行详细分析,再对电路结构进行改进。鉴频鉴相器在传统三态结构基础上采用对称设计,使输出UP和DOWN控制信号延时一致。电荷泵在主充放电支路中引入增益增强自适应稳压结构,通过局部负反馈稳定充放电晶体管漏极电压,提高充放电支路等效输出阻抗,从而减小电流失配。采用55 nm互补金属-氧化物-半导体(CMOS)工艺和1.8 V电源电压(VDD)进行仿真分析。结果表明,鉴频鉴相器能够在不同相位关系下正确产生控制信号;当电荷泵输出电压在0.4~1.4 V范围内变化时,所设计电荷泵充放电电流失配率小于1.34%,在VDD/2下失配率为0.3%,优于传统源极开关结构。联合仿真结果表明,所设计电路能够实现相位误差检测和电流转换,适用于中高速时钟生成与频率合成锁相环。

2026 年 10 期 v.63 ;
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光纤光栅外腔半导体激光器的光纤耦合技术研究

任浩;

针对980 nm光纤光栅外腔半导体激光器开展了单模光纤耦合技术研究。基于高斯光束传输理论与菲涅耳衍射理论,建立了楔形柱状微透镜光纤与激光二极管(LD)芯片的耦合效率模型,分析了耦合距离、透镜曲率半径(R)及楔角(θ)对耦合效率的影响。在工艺实现上,采用五维微调架进行高精度耦合调试,结合激光焊接技术实现光纤与芯片的固定封装。针对焊接应力导致的功率退化问题,对比了四种焊接顺序对Y方向位移及残余应力的影响,确定最优焊接顺序为先焊前点再焊后点。实验表明:采用R为4μm、θ为95°±5°的微透镜光纤,在优化工艺条件下,器件平均耦合效率约为67.8%,平均耦合功率59.2 mW,功率稳定性得到提高。器件经85℃、96 h高温存储及-55~85℃温度循环试验后功率变化较小,验证了耦合工艺的稳定性和环境适应性。

2026 年 10 期 v.63 ;
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