2011, 02, v.48;No.405 69-73
微光刻与微/纳米加工技术(续)
基金项目(Foundation):
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604);;
国家自然科学基金项目(61078060);;
基础科研项目(B1020090022)
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DOI:
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摘要：
<正>2下一代光刻技术虽然光学光刻技术为微电子技术突飞猛进的发展立下了汗马功劳,创造了一次又一次的人间奇迹,然而目前集成电路特征尺寸也越来越接近物理极限。为开发研究新一代的光刻技术,近年来世界
Abstract：
参考文献
[1]陈宝钦,刘明.半导体科学与技术[M].北京:科学出版社,2007:306-350.
[2]陈宝钦,赵珉,吴璇,等.微光刻与电子束光刻技术[C]//华人微电子学术论坛文集.北京,中国,2010:159-208.
基本信息:
DOI：
中图分类号:TN305.6
引用信息:
[1]陈宝钦.微光刻与微/纳米加工技术(续)[J].微纳电子技术,2011,48(02):69-73.
基金信息:
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604);; 国家自然科学基金项目(61078060);; 基础科研项目(B1020090022)