2017, 01, v.54;No.476 72
全国半导体设备和材料标准化技术委员会第六届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2016年会在重庆召开
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<正>全国半导体设备和材料标准化技术委员会第六届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2016年10月25—28日在重庆市召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外微光刻领域的专家及技术人员近130人参加了本次
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中图分类号:TN305.7-2
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[1].全国半导体设备和材料标准化技术委员会第六届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2016年会在重庆召开[J].微纳电子技术,2017,54(01):72.
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