1975, 08, 46-47
离子加工技术(微细加工)
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DOI:
10.13250/j.cnki.wndz.1975.08.006
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摘要：
<正> 如果用具有几百电子伏能量的离子轰击物质,那么每个离子打在物质上后大约就会有一个原子从物质中飞出。可以利用这样的离子轰击一个个地去除原子,这种方法称为离子磨削或离子腐蚀。最近已用于磁泡、DFB激光器、弹性表面波元件中微米以至亚微米的微细加工。光刻技术中的化学腐蚀被离子腐蚀代替的例子很多。如图1所示,将部分表面掩蔽起来,而后使用离子轰击加工。掩模材料可以原封不动地使用光致拉蚀剂,图形可以用光刻技术或电子束曝光来制作。兼顾到腐蚀速度和加工影响,离子的加速电压控制在1～5千伏之间,离子电流密度为1～10毫安/厘米2。双等离子管和空心阳极等离子枪可使用具有φ1～50毫米
Abstract：
参考文献
[1] E. G. Spencer, Appl Phys. Lett., 17 (1970) 328．
[2] M. Nakamura, Appl. Phys. Lett., 10 (1973) 515．
[3] R. C. Willam, IEEE Trans. MTT., 21 (1973) 195．
[4] 松尾他,昭和49年度应物学会春季讲演会予稿N-7．
[5] 松尾他,昭和48年度精机学会春季大会予稿P.299．
[6] 松尾他,昭和49年度应物学会春季讲演会予稿N-8．
基本信息:
DOI：10.13250/j.cnki.wndz.1975.08.006
中图分类号:
引用信息:
[1]张慕义.离子加工技术(微细加工)[J].半导体情报,1975(08):46-47.DOI:10.13250/j.cnki.wndz.1975.08.006.
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